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真空电镀：Vacuum Metalizing，即是物***相沉积（PVD），即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。早运用于光学镜片，如航海望远镜镜片，后来随着技术的改进，延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。几乎所有金属、合金、及陶瓷材料。自然材料会影响真空环境，不适合真空电镀。除了自然材料以外，适合真空电镀的材料包括金属类材料、软硬塑料（ABS料、ABS PC料、PC料等等）、复合材料、陶瓷、和玻璃等。常用于真空电镀表面处理的是铝、其次是银和铜。


真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（ 10-5Pa ）。UV真空电镀厂

真空无导电电镀，又称NCVM英文Nonconductivevacumetalization缩写。加工工艺高于普通真空电镀，加工工艺比普通工艺复杂得多。

NCVM采用镀金属、绝缘化合物等薄膜，利用各相不连续的特点，在不影响无线通信传输的情况下获得终的金属纹理。一是实现无导电，满足无线通信产品的正常使用；二是确保金属纹理的重要外观要求和需求。

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真空电镀设备塑料粗化、镀铬铜合金抛光溶液新技术净化因为镀铬液、塑料PVD真空电镀前用的粗化液、铜及其合金的抛光液等容易因各种金属离子的积累及三价铬的不时攀升而老化，使用性能大大下降，需进行净化处置。用急进处置办法，污染大，运转杂乱，费用大。经过采用隔膜电解处理，可有用去除溶液的金属杂质及多余的三价铬，采用助剂可有用去除特定离子如铜，多种办法结合既处理了污染问题又可节约生产本钱。UV真空电镀厂